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两句吵架引发数亿资金挥发 一文读懂光刻胶

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本号由江苏市区招商团队运营,瑞幸再一次证明了咖啡市场的无限潜力和想象空间。但又是一个坏消息,主要记载团队产业研究相关资料,在门店数量方面已经遥遥领先的瑞幸实现了盈利,关注产业基础和发展动态,有了更多的现金流扩张,着力打造招商热门产业资料库,其他玩家到底还能抢占多的市场份额?一位Tims Coffee员工在听说瑞幸盈利后的第一反应是:瑞幸有没有国际扩张计划?据Tech星球了解,产业招商交流平台。相关资料搜集自各平台,瑞幸的国际化(进军香港地区和美国)扩张计划于去年财务造假事件后暂停,产权归原作者所有。文中观点仅代表个人看法,至今还未重启。截至2021年5月31日,不具备其他任何意义。

总的观点:虚胖

01

基本情况

光刻胶又称光致抗蚀剂,瑞幸咖啡在拥有3949家自营店、1175家加盟店,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,计划2023年开设4800至6900家直营店。一位瑞幸员工表示,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。简单说,在宣布了整体盈利后,这种胶对光敏感,瑞幸咖啡董事长郭谨一定了一个更激进的目标。Tech星球向瑞幸咖啡求证盈利相关信息,在不同的光照下溶解情况不一样。行业利用光刻胶的特性,把光刻胶覆盖在半导体材料的表面,借助不同的光照,在半导体材料表面形成想要的图像。这个过程就是光刻。

具体来说,在光刻工艺中,光刻胶被涂抹在衬底上,光照或辐射通过掩膜板照射到衬底后,光刻胶在显影溶液中的溶解度便发生变化,经溶液溶解可溶分后,光刻胶层形成与掩膜版上完全相同的图形,再通过刻蚀在衬底上完成图形转移。

光刻工艺是芯片制造的核心工艺,制造成本占三分之一,时间成本占二分之一,而作为关键材料的光刻胶,占材料的总成本在4%左右,有着“半导体材料皇冠上的明珠”称号。

02

产业链

光刻胶主要由光引发剂(光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、溶材料剂、单体(活性稀释剂)和其他助剂组成。

增感剂是光刻胶的关键成分,对光刻胶的感光度、分辨率起着决定性作用。树脂将光刻胶中不同材料聚合在一起,构成光刻胶的骨架,决定光刻胶的硬度、柔韧性、附着力等基本属性,是专利壁垒的重要分。

下游应用主要为PCB、显示面板、LED和半导体。

根据曝光模式,分正胶和反胶,(类似于印章上的阳刻和印刻)。按照曝光波长,可分为紫外光刻胶(300~450nm)、深紫外光刻胶(160~280nm)、极紫外光刻胶(EUV,13.5nm)、电子束光刻胶、离子束光刻胶、X 射线光刻胶等。根据应用端不同分为半导体光刻胶、面板光刻胶、PCB光刻胶及其他光刻胶。其中集成电路光刻对线宽、设备和材料要求,PCB要求最低。

03

市场及发展

得益于半导体行业的发展,国内光刻胶市场增长快,行业保持着年复合增长6%的样子。同时需要明确,光刻胶虽重要,是半导体底层技术之一,但是它本身的市场整体规模并不是很。去年全球规模约19亿美元,而全球半导体市场规模在5000亿美元。

光刻胶行业被日本和美国公司垄断,日本厂商占主导地位。全品类光刻胶市场中,JSR、东京应化、罗门哈斯、信越化学、及富士电子材料全球前厂商就占据了光刻胶市场近90%的份额,就而言,日本占了7成,在光刻胶市场占据绝对的支配地位。日本断供韩国之后,三星集团的太子、海力士的CEO都是专程前往日本寻求沟通的。

国内光刻胶已经实现了各类(除 EUV)之外的突破。从国产化进程来看,PCB光刻胶目前国产替代进度最快,LCD光刻胶替代进度相对较快,而在半导体光刻胶领域国产技术较国外先进技术差距最。

在PCB光刻胶领域,湿膜光刻胶和光固化阻焊油墨国产化率达到几乎一半,LED宽谱g/i/h线光刻胶基本完成国产替代;LCD替代进度相对较快,LCD触摸屏光刻胶国产化率达到三分之一;半导体光刻胶与国外差距较,行业难度最低的g/i线光刻胶实现有少分替代,高端KrF、ArF和EUV光刻胶几乎全进口。

当下,半导体光刻胶更具体的情况是:KrF光刻胶,仅北京科华实现量产,晶瑞股份完成中试,上海新阳处于研发阶段;ArF光刻胶,南光电7月29日公告已经通过专家组验收,正在进行客户测试。北京科华和上海新阳处于研发阶段;极紫外EUV光刻胶仅北京科华研发。

04

几点思考

1.光刻胶的研发是迫在眉睫的,也是半导体国产替代的重点产业之一。国内光刻胶低端市场有产品,其他领域有突破,就某些先进制程而言,当前的国产光刻胶还不能满足需求。

2.光刻胶做出来难,更难的是应用,比如验证。测试不仅需要占用晶圆厂的产线,还需要与光刻机、掩膜版及半导体制程中的许多工艺步骤进行配合,成本极高。尤其是半导体光刻胶,验证周期一般都需要2-3年的时间。即使验证通过,面对不同半导体产品的差异化需求,还要有强的调配能力进行支撑。前文提到南光电公告也明确表示:ArF 光刻胶的复杂性决定了其在稳定量产阶段仍然存在工艺上的诸多风险,不仅需要技术攻关,还需要在应用中进行工艺的改进、完善。同时,ArF 光刻胶产品国产化替代受品质、客户的严格要求,后续是否能取得下游客户的批量订单,能否规模进入市场仍存在较多的不确定性。

3.前文有说,全球光刻胶市场很小,除了日本占有之外的空间更是非常小,但目前仅A股市场就有40家光刻胶概念公司,整个市值达到近6000亿。比如有一家这样写:国内主要的产业化生产中高端光刻胶单体的企业,是国际上先进的 EUV 光刻胶单体发明者、生产者,单体产品覆盖全球 90% 以上客户群……

4.市场小,验证成本高,行业有泡沫。应用端觉得国外的好,卡脖子的风险并不着急。资本方觉得替代就是机会,投入就有回报。双方都没错,当行业头的“潜心研究”的分析师,根本不认识龙头企业手握多项核心专利的专家,并喊出“你算老几”。这时候,行业多少有些畸形。

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标签:光刻胶 半导体光刻胶 半导体 光刻 北京科华