国产光刻胶的突破
在芯片的生产过程中，采购人和评审专家应当各自出具书面推荐意见。采购人推荐供应商的比例不得高于推荐供应商总数的50%。第七条采用公告方式邀请供应商的，除了需要用到光刻机之外，采购人、采购代理机构应当在级以上财政门指定的采购信息发布媒体发布竞争性磋商公告。，还离不开一项关键材料，那就是光刻胶。可能很多人都不明白光刻胶到底有什么作用，但是我们只要知道没有它，芯片制造环节便无法顺利完成就行了，其重要性从某种意义上来说不亚于光刻机。
而纵观之前的光刻胶市场，日韩两国的企业占据了绝多数份额，甚至是处于垄断的状态。我们国内要想获得充足的光刻胶供应，必须从它们那里进口，但这种面很容易受到外界因素的影响，尤其是在美国规则的制约下，国内很难买到高端的光刻胶。
与光刻机一样，光刻胶的精度也能决定芯片的先进程度，比如说普通的光刻胶，肯定无法用于高端芯片的制造环节。那么就目前来看，国内能否自主生产出高端的光刻胶呢？或者说失去了国外的供应之后，国内的芯片产业能否实现光刻胶的自给自足？
根据最新消息显示，就在近期，有一家国产巨头，成功突破7nm ArF光刻胶，可用于7nm芯片的生产过程。这家巨头指的就是南光电，虽然不是特别出名，但是在光刻胶领域，南光电就是国内公认的龙头企业，此次攻克7nm光刻胶也是众望所归。
家都知道，7nm已经是非常先进的芯片制程了，国内直到现在都还不能量产出7nm芯片。这除了是因为设备短缺之外，材料的限制也是重要影响因素，而现在南光电成功突破7nm光刻胶，等于说是为国产7nm芯片提供了很的助力，量产指日可待。
逐个“破冰”，正在迈向更高制程
毫无疑问，南光电的研究成果，对于国内的芯片事业而言，无疑是一个非常好的消息，相当于又攻克了一项技术难题。但是就最近这段时间的情况来看，何止光刻胶？国产半导体设备逐个“破冰”，正在向更高制程前进，要不了多久就能打破封锁。
首先是光刻机，这项核心设备已经困扰了国内几十年，虽然目前国内的光刻机还是没有达到高端水平，但是进步速度却非常快，连ASML都感受到了一些压力。国内最的光刻机厂商是上海微电子，其明年就会推出28nm光刻机，届时国内分芯片都可以实现自产自销。
至于ASML对国内的态度，如果不是有美国的从中作梗，ASML肯定非常乐意将光刻机出口给国产半导体公司。因为国内是全球最的集成电路产业基地，每年对光刻机的需求都非常高，一旦失去了市场，ASML的营收和利润都会遭受一些损失。
其次，在蚀刻机方面，国内已经做到了全球领先，由中微半导体生产出来的5nm蚀刻机，早就获得了台积电的认证，并且正式投入了5nm芯片生产线。可能在某些人看来，蚀刻机不如光刻机出名，但其实二者的作用同等重要，都为芯片制造提供了最基础的支撑。
最后，无论是光刻胶，还是光刻机，亦或者是蚀刻机，它们的接连突破都反映出了一个事实：国产芯片正在砥砺前行，哪怕是有美国的阻挠，也不能动摇这些国产半导体巨头的决心。
正所谓有志者，事竟成，国内只要专注于芯片产业，并为此投入量的人力和财力，就一定能收获到好的结果。等到国产芯片全面崛起之后，美国的压力就会彻底消失，芯也会让全世界刮目相看！
写在最后
综上所述，随着国内的全面布，不管是半导体设备，还是关键原材料，都传来了一些好消息，并且一直在推动国产芯片的进步。相信国内只要保持住这种发展状态，要不了多久就能实现自己的目标，让国产芯片踏上崛起之路。
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