今天聊聊捷佳伟创。
公司的基本情况，增加了八倍多。更多的低收入者成为了运营商的用户。2、这是技术进步的结果。2001年发展的还是2G的GSM用户，他家技术路线还是有那么一些不同。首先是公司TopCon和HJT路线都做，而2020年末，双线布。其次，移动的4G客户达到7.75亿户，在HJT的TCO膜沉积环节，其中5G套餐用户达到了1.65亿户。3、这是市场竞争的结果。2001年，钧石和迈为用的都是PVD，我国移动通信运营商只有移动和联通两个，但公司用的是RPD。公司认为，而2020年末，对提高转换效率来说，我国移动运营商有移动、电信、联通三家，RPD是必经之路。如果将来钙钛矿需要用透明导电膜，且三家的移动用户都超过了3亿。4、图形的ARPU值变化，RPD会是一个必然选择，处处显示了背后的政策和环境变化。我们从头理顺一下：（1）2001年~2004年，因为PVD是很难承担该种种工艺要求，ARPU值快速下降，且超高效25%以上的电池也只能依靠RPD。最后就是在非晶硅沉积环节，如果用PECVD的方案，之前家用的都是板式PECVD，但公司成功折腾出了管式PECVD，震惊了家，这也是近期市场上涨的原因。目前在非晶硅沉积环节，捷佳已经可以提供三种路线的设备，包括板PECVD+RPD/PVD；管PECVD+RPD/PVD；Cat-CVD+PVD/RPD。
具体来说，就是8月18日下午，捷佳伟创首批管式异质结PECVD工艺电池顺利下线，是全球HJT电池片采用管式PECVD的首创。根据公司的说法，管式PECVD具有投资成本低、占地面积小、开机率高、维护保养成本低等特点，尤其适用于批量生产线，必将成为异质结电池降本增效道路上的里程碑事件。
所谓PECVD，是指PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition )——等离子体增强化学气相沉积法，是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积PECVD。PECVD有两种，一是直接式，即基片位于一个电极上，直接接触等离子体。二是间接式，即基片不接触激发电极。在晶硅电池制造领域，直接式PECVD设备一般指的是管式PECVD,而间接式PECVD设备一般指的是板式PECVD，两种PECVD均运用于光伏电池生产线。不管是直接式还是间接式PECVD，普遍都用来生成用于减反射和对硅片起到钝化作用的氮化硅薄膜，PECVD设备的性能指标主要包括:生长薄膜的均匀性，致密性，以及设备产能。一般情况下，板式PECVD的产能及薄膜均匀性要优于管式PECVD，但是管式PECVD的薄膜致密性及钝化效果要优于板式PECVD。
在PERC时代，也出现过板式与管式PECVD之争。PERC技术规模产业化主要得益于梅耶博格推出了量产机型的板式PECVD，但此后捷佳伟创推出了管式PECVD，并对管径进行持续做更新，从而持续降低PERC单GW投资成本，最终将板式PECVD淘汰。所以，管式设备其实是捷佳伟创的强项了。
但是，在今年4月的调研中，迈为是不认可板P的，说是两年多前已经做过试验，以其对于对HJT的理解来看，管式是没有什么希望的。不过在8月的时候迈为在调研中也说，PERC时代需要用到镀膜设备，以管式为主；HJT以板式为主，公司有路径依赖的话会沿着路径发展，切换路线核心技术人员紧缺，较难挖人才，技术路线切换有沉没成本，各家沿着自己擅长的方向进行。
根据捷佳伟创的说法，板式的组合方式不灵活，从头到尾是串行的，所以只能提供92%的开机率，如果自动化设备出问题了，也会影响开机率，而管式的能耗、功率控制都有优势。但管P的应用也存在一些难题：管式设备在应用到HJT的问题是需要解决镀膜问题，它对硅片有损伤，需要用高频和中频的电源，所以有损失。技术上需要用射频来镀膜，射频导入平板比较容易，但是导入管式就比较难。2021年1月份之前没有1MW以上的射频导入镀膜的设备研发。捷佳伟创是因为以前有管式的技术准备，结合管式和板式HJT的经验，射频导入取得了很好的技术突破。当然管式还有很多的问题，比如说载具的持续量产使用，粉尘的处理等。
总体而言，管P可以让单GW的成本压缩到3-3.5亿左右，有望在效率、成本、稼动率上取得领先，是今年HJT产业非常重要的设备进展。HJT各种技术路线都有进展，保持密切吧。
来源：剑非观点
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