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败美韩两国突破3nm芯片物理极限,中科院立功,《瓦森纳协定》将失效?日本半

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随着半导体技术的进步,而在种类繁多的制造业当中,目前全球高端芯片工艺制程已经来到了5nm以下的精度,芯片的制造是公认最为高级的,台积电作为全球最先进的代工巨头,是最为精华浓缩的分,已实现了5nm芯片的量产,芯片技术也几乎是每个的高级机密。对于最的发展家来说,而且3nm也步入了风险试产阶段,要将国产制造业水平更加优质,按照台积电方面给出的消息显示,并且跟上国际水准,3nm芯片或将在明年进入市场。

不过,在芯片方面就需要攻克难关。在这样的迫切形势下,值得注意的是,一位日本专家加入企业,3nm以下工艺制程芯片的理论性能虽然更好,一起研究芯片技术,但它对制造技术、设备的要求却越来越高,而他的目的也是为了重创其他两国。发展势头被阻拦,而且良品率也出现了的缩水,这种现象会数倍乃至数十倍的增加造芯成本,显然不符合商业逻辑。就是业内所说的传统芯片的“摩尔定律”。

为此,全球各地区都在积极地寻找新型半导体材料以求代替。而对于被老美卡脖子的国内芯片市场来说,家在同一起跑线上所研发的新型芯片,无疑是我们打破技术封锁,实现弯道超车的良机,而且也有机会绕开我们在传统硅基高端芯片上遇到的EUV光刻壁垒。

在近日全球的“IEEE国际芯片导线技术会议”上,imec提出了四种延续摩尔定律、打破2nm芯片物理极限的方法。不过,这几种方法无一不是建立在了使用“石墨烯材料”的基础之上,经过几天的讨论,专家组最终达成一致,将石墨烯定位下一代新型半导体材料,将碳基芯片定义为下一个芯片时代的主流。

提到石墨烯材料,或许很多人都不陌生。早在去年十月份,中科院就自主研发完成了8英寸石墨烯晶圆。在石墨烯创新成果展示上,外媒表示,中科院的8英寸石墨烯晶圆不管是性能或者是尺寸,都处国际顶尖水准。

更重要的是,碳元素稳定、易导电、耐高温,易于成型和机械加工的特性,决定了碳基芯片的制造完全可绕开复杂的EUV光刻设备。

很显然,在以石墨烯为主导的碳基芯片领域,我国是全球的领航者,是最有希望实现摩尔定律延续的地区。

这意味着,即便老美在硅基芯片领域优势明显,但在下一个芯片时代,它若想在碳基领域有所作为,就不得不依赖我们的技术。

这样的反转或许是老美万万没想到的。要知道,在传统硅基芯片领域,我们一直依赖西方技术,购买美半导体市场的高价芯片,近两年我国在半导体芯片方面的进口额更是超过了3000亿。

然而,一直在我国市场捞钱的老美,却仍一直妄想遏制我国高科技的发展,还为此联手了四五十个成员国,特意签署了一份《瓦森纳协定》。

该协定的主要内容就是禁止所有关键技术向我国出口,其中包括荷兰ASML的EUV光刻机。也正是由于这个原因,才导致我们在传统半导体芯片领域一直处于跟跑的面。

不过,随着石墨烯、碳基芯片时代的到来,半导体技术或将一举实现对西方的反超,从而成为全球芯片规则的制定者,届时所有的地区都要依赖我国的芯片技术,而这份充满“歧视”的《瓦森纳协定》,也或将就此作废!

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标签:3nm芯片 中科院 芯片 瓦森纳协定 中国半导体 碳基芯片